Semiconductor manufacturing stock photo, An old computer processor stands on background of motherboard

NXP Semiconductor采用3D TRASAR™冷却水技术每年节水7.2百万加仑

背景

NXP Semiconductor是生产MEMS、微控制器、射频收发器和放大器的主要制造商。在该晶圆厂位于德克萨斯州奥斯汀的工厂里,其中央公用事业系统设有一个冷却塔,用于支持向该晶圆厂提供工艺冷却水的冷却器。与大多数半导体制造商一样,NXP秉持对环境和本地社区的坚定承诺。

该晶圆厂最大的挑战是必须设法减少水的使用量和排放量,同时不影响公用事业的支持功能。

一个显而易见的选择是回收该晶圆厂的工艺水,用于公用事业中心的冷却塔。然而,这要求针对该晶圆厂再生工艺水中的污染物实施相应的防护方案。其中的污染物包括磷酸盐、氟化物、硫酸盐、氯化物、氨和二氧化硅,以及天然存在的水质硬度(钙和镁),这些都会增加冷却水系统产生腐蚀、微生物和结垢的风险。选择一个适应性水处理方案是管理这些风险以及优化相关机械、化学和运行条件的关键。

解决方案

经过与NXP人员深入讨论,纳尔科团队对再生水流有了透彻的了解。在此基础上,纳尔科提出了一项3D TRASAR冷却水技术方案,该方案采用三项主要创新技术为微电子晶圆厂提供灵活的控制:

  • 实时腐蚀监测和控制
  • 性能优于传统多聚磷酸盐阻垢剂和缓蚀剂的化学制剂
  • 示踪惰性荧光聚合物使化学方案能够实时适应腐蚀应力的变化

除了3D TRASAR方案,NXP和纳尔科还实施了一个流程,包括对自动化系统进行全面检修。

化学制剂输送和储存系统

纳尔科PORTA-FEED™系统大大减少了现场化学品容器桶的数量,从而减少了NXP员工搬运桶的工作量。

新的化学处理方案自动化

与3D TRASAR冷却水技术方案相关的设备占用的物理空间比NXP以前的化学控制自动化和加药系统小得多。这种节省空间的设计使该晶圆厂的这一区域显得更加整洁,减少了杂乱。

成果

转换为3D TRASAR方案以后,腐蚀速率降低了93%,而且现在可以提供实时腐蚀数据。

3D TRASAR方案涵盖艺康全球情报中心(EGIC)的支持,该中心提供24/7全天候性能趋势监测、警报审查和系统故障排除。EGIC可以联系当地的纳尔科人员或晶圆厂员工,在小问题演变成大事件之前采取纠正措施。

3D TRASAR方案能够耐受水质的变化,从而使该晶圆厂能够将冷却塔的浓度循环从7次增加到15次。该方案还使NXP能够使用更多再生水。

市政水用水量每年减少7.2百万加仑(27,250方),节省成本23,680美元。

排放流量每年减少8.5百万加仑(32,180方),从而额外节省47,185美元的成本。

负责方案运行的劳动力也得到了优化,节省了30,000美元,同时使运行人员能够专注于价值更高的工作。方案总体成本也降低了14,000美元。最后,该项目在预算范围内提前完工,并且超过了节约目标。

总计而言,3D TRASAR冷却水方案每年可创造价值114,865美元的显著效益。

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每年节省量

  • eROI Water Icon


    7.2百万加仑*

    每年减少市政水用水量 

  • Greenhouse eROI icon

    废弃物
    8.5百万加仑*

    每年减少废水排放量

  • Productivity eROI icon

    生产率
    每年30,000美元*

    通过优化运行劳动力

  • Energy eROI icon

    成本
    每年14,000美元*

    降低方案成本 

  • 创造的总价值:
    每年114,865美元

*客户提供的数据

精选解决方案

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3D TRASAR®冷却水技术

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