FCC主分馏塔塔顶系统中存在氨、硫化氢和不同浓度的氰化物意味着可能发生腐蚀。通常发现的腐蚀机理是二硫化物腐蚀和氰化物引起的氢致腐蚀。
二硫化物腐蚀由于高pH值水中的硫化氢转化为二硫化物以及二硫化物与工艺材料中的铁直接反应而引起。为高pH值环境运行而特别设计的纳尔科成膜抑制剂可将此类腐蚀降至最低。
氰离子的存在可加速二硫化物侵蚀并促进氢致开裂机理，例如：
- 氢鼓泡
- 硫化物应力腐蚀开裂 (SSC)
- 氢致开裂 (HIC)
- 应力导向氢致开裂 (SOHIC)
精炼厂采用水洗和化学处理减少氢气产生，通过化学处理减少系统中的氰化氢，从而防止或最大限度减少腐蚀和氢气活性侵蚀。纳尔科可通过利用独特设计的成膜抑制剂化学性质来减少氢原子的形成，从而将腐蚀的影响降至最低。
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